年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Азот Трифторид）,化学式NF3,是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体, 在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

Трифторид азота, химическая формула NF3, является сильным окислителем. Как важный промышленный специальный газ, он имеет широкий спектр применения.
В микроэлектронной промышленности трифторид азота является отличным газом для плазменного травления; В полупроводниковых чипах, плоских дисплеях, оптическом волокне, фотоэлектрических элементах и ​​других областях производства трифторид азота в основном используется в качестве газа плазменного травления и средства для очистки реакционной полости.
Его также можно использовать в высокоэнергетических химических лазерах, чтобы добиться его применения за счет реакции с водородом с мгновенным выделением большого количества тепла. Трифторид азота также используется в качестве высокоэнергетического топлива, а также в качестве окислителя и топлива при запусках ракет.